Dotierung von Halbleitern mit amorphem Borpulver

Unser amorphes Borpulver bietetMindestreinheit ≥85%und Uniform1 μm werkseitige PartikelgrößeEs zeichnet sich durch hohe chemische Aktivität, starke thermische Stabilität und gute Dispergierbarkeit aus und eignet sich daher für pyrotechnische Anwendungen, Treibstoffe für die Luft- und Raumfahrt sowie die Dotierung von Halbleitern. Der Verzicht auf ein zweites Mahlen senkt die Kosten, und geringe Verunreinigungen gewährleisten eine gleichbleibende Endproduktqualität – ideal für anspruchsvolle industrielle Anwendungen.