Unser dies modifiziertes sphärisches Siliciumdioxid im Submikronbereich Es zeichnet sich durch hohe Reinheit (>99,9 %), ausgezeichnete Sphärizität (>95 %), einheitliche Partikelgröße und gute Dispersion aus und findet breite Anwendung in der Elektronik, bei Beschichtungen und in der Kosmetik.
MEHR ANZEIGEN