Unser Aktivkupferoxid in Galvanisierungsqualität Es zeichnet sich durch einen CuO-Gehalt von ≥99 % und extrem niedrige Verunreinigungen durch Schwermetalle, Alkalimetalle und Chloride aus. Es löst sich innerhalb von 30 Sekunden schnell auf und gewährleistet so gleichmäßige Kupferschichten. Es findet breite Anwendung in der Leiterplattengalvanisierung, der Oberflächenbehandlung von Hardwarekomponenten, in Lithiumbatteriematerialien und in der Herstellung kupferbasierter Katalysatoren.
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